SI500PPD 平行平板式等离子增强PECVD沉积设备 |
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| 厂商名称： |
SENTHCH |
| 商品名称： |
平行平板式等离子增强PECVD沉积设备 |
| 商品型号： |
SI500PPD |
| 简单信息： |
电容平板式PECVD等离子沉积设备，主要用于SiOx, SiOxNy,SiNy, a-Si, SiC薄膜的沉积 。沉积样片尺寸2"--8"。上电极和下电极分别加热，高的长期可靠性和重复性。串行总线INTERBUS控制，服务器和客户端架构，独立的控制机柜，避免反应腔体受热。 |
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SI 500 PPD平行板式PECVD沉积系统
系统配置:
• 电源13.56 MHz, 600 W
• 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽
• 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
• 预真空锁loadlock， 带有取放机械手
• 高速率真空泵系统，独立气流压强控制
• 绝缘外接地电极，支持2"-4"基底或4"托架(支持小晶圆,小片样品)
• 基底温度20ºC至350ºC
• 远程控制(RFC)
• Windos NT操作系统
• SENTECH高级等离子设备操作软件
选项:
• Cassette到cassette操作方式
• 穿墙式安装
• 在线椭偏测量(SE 401, SE 801) |
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