SE500adv 组合式椭偏仪 |
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| 厂商名称： |
SENTHCH |
| 商品名称： |
组合式椭偏仪 |
| 商品型号： |
SE500adv |
| 简单信息： |
高性能、高可靠性，拥有业内最高测量精度。可测量两层膜厚度，或一层膜厚度和折射率。CER模式，可结合反射式膜厚仪和激光椭偏仪，给出测量数据。选件与SE400选件相同 |
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迄今为止最简单易用的椭偏仪
• SE 500adv结合椭偏测量和反射测量
• 可消除椭偏测量对透明膜厚度的周期不确定性
• 膜厚测量范围可扩展至25000 nm.
• 激光波长632.8 nm
• 反射计光谱范围450 nm-920 nm
• 光斑直径80 μm
• 150 mm (z-tilt)样品台
• 角度计，可变入射角度，步进5°
• LAN连接电脑
CER组合椭偏仪SE 500advanced可作为激光椭偏仪，CER组合式椭偏仪或反射膜厚仪FTPadvanced操作。比常规激光椭偏仪有更好的适应性。
作为椭偏仪操作
单角度和多角度测量，可测量最多三层膜的厚度和光学参数，测量波长632.8nm，有最高的测量精度。
作为反射式膜厚仪FTPadvanced操作
白光正入射测量，可测量透明膜或弱吸收薄膜，厚度最大可达25μm。配置更先进的软件FTPexpert后能够测量多层膜。
作为CER组合椭偏仪操作
解决了透明膜的周期不确定性问题，并由于确定的膜厚周期，折射率测量精度显著增加。可测量透明膜的Cauchy系数。
技术指标:
Ψ,Δ精度，90°位置透射测量: | δ(Ψ)=0.002°, δ(Δ)=0.002° | 长时稳定性: | δ(Ψ)=±0.01°, δ(Δ)=±0.1° | 膜厚精度: | 0.1 Å for 100 nm SiO2 on Si | 折射率精度: | 5×10-4 for 100 nm SiO2 on Si |
精度定义为30次测量的标准差
长时稳定性为90°位置时24小时内测量的差值
选项
• 手动x-y样品台，行程50 mm
• Mapping地貌图扫描 (x-y, 最大200 mm, 真空吸附)
• 摄像选项，用于样品校准和表面监视
• 30 μm微细光斑
• 第二激光波长1550
• 自动对焦
• SIMULATION软件 |
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